ナノインプリント用マスクの複製装置誕生、半導体デバイス製造コストの削減へ

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キヤノンは2017年2月23日、ナノインプリント用マスクを低コストで複製するマスクレプリカ製造装置「FPA-1100NR2」を製品化し、ナノインプリント用マスクのリーディングサプライヤーであるDNP(大日本印刷)グループに納入すると発表した。

ナノインプリントは、ウエハーに塗布したレジスト(樹脂)にマスクを直接押しつけ、マスクに彫り込まれた回路パターンを忠実に転写する技術だ。光露光装置に比べて微細な10nm台の回路パターンを低コストで描けるため、近年注目が集まっている。だが、半導体デバイスの量産に活用する場合、マスクの製造コストやリードタイムがかかるという課題があった。

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この課題を克服するためにキャノンが考えた方法は、高価なマスターマスクではなく安価なレプリカマスクを使用すること。それを可能にするために開発されたのが、マスターマスクのパターンをマスク部材に転写してレプリカマスクを製作する装置、FPA-1100NR2だ。

キヤノンによると、FPA-1100NR2を活用すれば、短時間でレプリカマスクの製作が可能になり、マスクの生産性を飛躍的に高めることができるという。その結果として、ナノインプリント技術を用いた半導体デバイスの製造コストを大幅に削減できるとしている。

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