光学リソグラフィーに関するおすすめ記事 | fabcross for エンジニア

タグ：光学リソグラフィー

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  • 2019-9-16
  • 化学・素材系, 技術ニュース, 海外ニュース
  • Journal of Materials Chemistry C, ブルックヘブン国立研究所, 光学リソグラフィー, 原子層堆積（ALD）, 学術, 有機無機ハイブリッド型レジスト材料, 極紫外線リソグラフィー（EUVL）, 電子ビームリソグラフィー（EBL）, 高分子ポリメチルメタクリレート（PMMA）

  高解像度パターンを転写できる有機無機ハイブリッドレジスト材料を開発

  ブルックヘブン国立研究所の研究チームが、次世代エレクトロニクス向けに、高解像度パターンを転写できる、有機無機ハイブリッド型レジスト材料を考案した。これまでより高いコントラストやアスペクト比が得られ、30nmレベルの解像度…

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