タグ:ナノインプリント技術
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反射率を従来の1/10以下に抑えた高耐久性偏光シートを開発――新たに開発した厚膜ナノ印刷技術により実現 産総研など
産業技術総合研究所は2019年7月1日、従来よりも耐久性、透明性が高く、しかも反射率を抑制したワイヤーグリッド偏光シートを開発したと発表した。 今回の開発は、菱江化学、東海精密工業、伊藤光学工業との共同によるものだ…詳細を見る -
ナノインプリント用マスクの複製装置誕生、半導体デバイス製造コストの削減へ
キヤノンは2017年2月23日、ナノインプリント用マスクを低コストで複製するマスクレプリカ製造装置「FPA-1100NR2」を製品化し、ナノインプリント用マスクのリーディングサプライヤーであるDNP(大日本印刷)グループ…詳細を見る