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タグ：産学官連携

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  • 2020-3-2
  • 技術ニュース, 電気・電子系
  • 300 mmウエハープロセス, TIA推進センター, シリコンフォトニクスデバイス, シリコンフォトニクスデバイスチップ, 産学官連携, 産総研, 研究

  シリコンフォトニクスデバイスの研究開発試作体制を構築　産総研

  産業技術総合研究所（産総研）は2020年2月27日、所内の電子光技術研究部門とTIA推進センターが共同で、産総研以外の幅広いユーザーが利用可能な国内初のシリコンフォトニクスデバイスの試作体制を構築したと発表した。 …

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