高品質薄膜作製に関するおすすめ記事 | fabcross for エンジニア

タグ：高品質薄膜作製

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  • 2017-12-25
  • 化学・素材系, 技術ニュース
  • Cd3As2, アニール手法, トポロジカル半金属, トポロジカル母物質, トポロジカル相転移, トポロジカル絶縁体, パルスレーザー堆積法, 東京大学, 理化学研究所, 高品質薄膜作製

  東大と理研、トポロジカル母物質に相当するトポロジカル半金属の薄膜作製に成功

  東京大学と理化学研究所は2017年12月22日、トポロジカル母物質にあたるトポロジカル半金属Cd3As2で高品質薄膜を作製し、非散逸な量子伝導を観測したと発表した。 エネルギー損失のない電子の非散逸な伝導は、低消費…

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