昭和電工、高純度三塩化ホウ素の生産力拡大に向け製造拠点を増強する方針

昭和電工は2016年2月4日、電子材料製造用特殊ガスの一種である高純度三塩化ホウ素（BCl₃）の製造拠点を増強する方針を打ち出した。高純度BCl₃の生産能力を従来比1.5倍に引き上げ、液晶パネルの需要拡大に対応すると発表している。

高純度BCl₃は、液晶パネルやシリコン半導体の製造工程でアルミ配線の微細加工（エッチング）に使用する特殊ガス。アルミ配線を使用する有機EL（OLED）パネルや低温ポリシリコン（LTPS）液晶パネルへの投資が近年相次いでいることから、昭和電工は高純度BCl₃の需要が今後も安定すると見込んでいる。

今回の計画では、川崎事業所の製造設備を増強する予定。同事業所は、2016年3月に稼働を開始するという。

昭和電工は、40年近く営む電子材料用高純度ガス事業での精製・分析・品質管理技術に定評がある企業。同社は今後、拡大する電子材料市場に迅速に対応し、同事業の強化・拡大を推進すると明らかにした。中期経営計画である「Project 2020＋」では、電子材料用高純度ガスを成長加速事業として位置づけている。