静電気による放電破壊を防止するフォトマスクを開発、電子デバイス生産の歩留まり向上へ

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ESD障害対策クロムフォトマスク

DICが2020年1月17日、静電気による放電破壊を防止するフォトマスク(ESD障害対策クロムフォトマスク)をトピックと共同で開発したと発表した。トピックは同製品を2020年3月から、国内と東南アジア地域の電子部品・半導体市場に投入する予定だ。

フォトマスクは、スマートフォンやタブレットなどの電子デバイスに用いる電子回路基板を製造する際に、電子回路基材に回路を描写する工程で利用される原版だ。フォトマスクの遮光層には、導電性遮光膜(金属クロム)を使用したフォトマスクがあり、フォトマスクの使用中に発生する静電気でパターン間に電位差が生じ、放電して破壊されることをESD(Electro Static Discharge)障害という。

ESD障害(イメージ)

ESD障害は、露光工程での発生はもとより、工程内でのハンドリング時や搬送時にも発生することで知られている。特に露光方式が、密着露光時やプロキシミティ露光時に、高い電圧が発生する場合が多いことから、このESD障害が歩留まり低下の大きな原因となっているという。

そこで、今回、高精細で高精度のハイスペックなクロムマスクにESD障害を抑制するため特殊コーティングを施し、電子デバイスメーカーの製造工程における歩留まり向上とESD障害の防止の両立を達成するため、ESD障害対策クロムフォトマスクを開発した。同製品は、クリーンルーム内の異物付着防止のほか、付着した異物の容易な除去などの効果も期待できる。

DICは、今後、次世代通信規格「5G」対応の電子デバイスやIoTデバイスの需要が急激に高まることも予測され、本製品の需要が期待されるとしている。

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