高精度/高分解のFIB-SEMシステムを販売――TEM試料作製からSTEM観察までシームレスに実行 日本電子

日本電子は2023年2月1日、FIB-SEMシステム「JIB-PS500i」の販売を開始した。高精度で加工できる集束イオンビーム加工装置(FIB)と高分解能を有する走査電子顕微鏡(SEM)の複合システムで、高精度且つより薄くが要求される透過電子顕微鏡(TEM)用試料作製のニーズに応える。価格2億2000万円~(税込)。

最大電流100nAのGaイオンビーム照射ができるFIB鏡筒を搭載。大電流での加工は、特に広領域の観察と分析に必要な断面試料作製に威力を発揮する。また、短ワーキングディスタンス化と新たに開発した電源を搭載。低加速仕上げ加工時の性能を向上している。

SEM鏡筒は、新たに開発したスーパーコニカルレンズシステムを搭載。低加速電圧時の像分解能を大きく向上している。コントラストが良く鮮明なSEM像を取得できるため、薄片加工終点を見逃さない。

大型チャンバーと新開発の試料ステージを採用。可動範囲が増えており、大きな試料にも対応する。また、ステージの傾斜角を90度傾けて使用できるSTEM検出器を新規に開発。シームレスにTEM試料作製からSTEM観察まで実行できる。

操作GUIは、高分解能走査電子顕微鏡JSM-IT800シリーズに使用しているSEM centerを搭載。EDS分析フルインテグレーションに対応する。二軸傾斜カートリッジと専用TEMホルダーにより、TEM-FIB間の試料搬送がより容易になっていることに加え、高精度に方位合わせができる。

FIBの像分解能は3nm(30kV時)、倍率×50~×300000、加速電圧0.5〜30kV、ビーム電流1.0pA〜100nA。SEMの像分解能は0.7nm(15kV)、1.4nm(1kV)、1.0nm(1kV、BDモード)、倍率は×10~×1000000(128×96mm 写真サイズ表示時)、入射電圧0.01〜30kV、ビーム電流 約1pA〜50nA以上となっている。

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高精度と高分解能を実現したFIB-SEM システム「JIB-PS500i」を販売開始 | ニュース | JEOL 日本電子株式会社

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