タグ：プリカーサ分子
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高品質で高純度な窒化インジウム薄膜作製に成功――次世代型高周波デバイスとして期待
電子移動度が高く次世代型高周波デバイスとして期待されている窒化インジウム（InN）について、結晶性に優れた高品質高純度の薄膜を作製する新しい手法が、スウェーデンのリンショーピング大学の研究チームによって開発された。今後益…詳細を見る-
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