エピタキシャル薄膜形成技術に関するおすすめ記事 | fabcross for エンジニア

タグ：エピタキシャル薄膜形成技術

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  • 2022-4-21
  • 機械系, 製品ニュース
  • GaN, GaNエピタキシャル成長モジュール, RaSE法, SEGul, アルバック, エピタキシャル薄膜形成技術, スパッタリングモジュール, スパッタリング技術, スパッタリング装置

  スパッタリング法によるGaNエピタキシャル成長モジュールを開発―― GaNデバイス製造の新たな選択肢　アルバック

  アルバックは2022年4月20日、スパッタリング法によるGaNのエピタキシャル薄膜形成技術「RaSE（レイズ）法」と、同技術を用いたスパッタリングモジュール「SEGul（シーガル）」を開発したと発表した。GaNデバイス製…

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