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タグ：CFGG合金薄膜

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  • 2019-12-5
  • ニュース, 化学・素材系, 技術ニュース, 電気・電子系
  • CFGG合金薄膜, KEK, NIMS, QST, グラフェン, スピントロニクス, スピントロニクスデバイス, スピン偏極電流, ホイスラー合金, ホイスラー合金／グラフェン積層材料, マグネトロンスパッタリング法, 化学気相成長法, 物質・材料研究機構, 研究, 磁性体, 磁気メモリ, 磁気抵抗素子, 量子科学技術研究開発機構（量研）, 電子スピン, 非磁性体, 高エネルギー加速器研究機構

  電子スピンの制御と保持の性能に優れるホイスラー合金／グラフェン積層材料を開発――高記録密度／省エネ磁気メモリの実現に前進　量研など

  量子科学技術研究開発機構（量研）は2019年12月3日、電子スピンの制御性能に優れるホイスラー合金と保持性能に優れるグラフェンからなる積層材料を開発したと発表した。なお、この研究は、高エネルギー加速器研究機構と物質・材料…

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