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有機トランジスタ用半導体を従来の2000倍超の速度で塗布成膜――プリンテッドエレクトロニクスの実用化に寄与 東京工業大学
東京工業大学は2020年6月29日、同大学 科学技術創成研究院 未来産業技術研究所の研究チームが、有機トランジスタ用半導体の高速塗布成膜に成功したと発表した。ディップコート法と液晶性有機半導体を用いたもので、成膜速度は従…詳細を見る
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