タグ：スピンコート法
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大面積の強誘電体結晶薄膜をSi基板上に作製する新手法を開発 東京大学
東京大学大学院工学系研究科の研究グループは2024年7月18日、バッファ層とスピンコート法を組み合わせ、大面積の強誘電体結晶薄膜をSi基板上に作製する新たな手法を発表した。 比較的低温かつ常圧で製膜できるスピンコー…詳細を見る-
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酸化物系セラミックスを用いた、ナトリウムイオン電池の電極形成法を開発 九州大学と名古屋大学
九州大学は2023年1月4日、同大学大学院工学研究院や名古屋大学などの研究グループが、酸化物系セラミックスを用いたナトリウムイオン電池の開発に必要な電極形成の手法を開発したと発表した。これまで困難だとされてきた焼結による…詳細を見る-
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有機トランジスタ用半導体を従来の2000倍超の速度で塗布成膜――プリンテッドエレクトロニクスの実用化に寄与 東京工業大学
東京工業大学は2020年6月29日、同大学 科学技術創成研究院 未来産業技術研究所の研究チームが、有機トランジスタ用半導体の高速塗布成膜に成功したと発表した。ディップコート法と液晶性有機半導体を用いたもので、成膜速度は従…詳細を見る-
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ペロブスカイト青色発光ダイオードを発明――結晶構造の変化による変色も確認
カリフォルニア大学バークレー校（UC Berkeley）の研究チームが、安価で製造が容易なペロブスカイトを用いた青色発光ダイオードを開発した。グラフェン製作でも使われる粘着性テープによる剥離法により、青色を発光する2次元…詳細を見る-
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光学機器用カラーフィルター等に発生する「膜厚ムラ」形成機構を解明――溶媒の種類、濃度の調整でムラを回避・抑制 東京都市大
東京都市大学は2019年9月13日、光学機器に用いられるカラーフィルター等に製造時に生じる膜厚ムラの形成機構を解明し、このムラを回避、抑制するための指針を発表した。 産業用フィルムなどにみられる膜厚ムラは、製造時の…詳細を見る-
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