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タグ：AlOx-ReRAM

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  • 2019-11-18
  • 化学・素材系, 技術ニュース
  • AlOx-ReRAM, DRAM, ReRAM, アモルファスアルミ酸化膜, 日本原子力研究開発機構, 物質・材料研究機構, 研究, 高エネルギー加速器研究機構

  アルミでコンピューターメモリーを省電力化する――アルミ酸化膜を用いた新しい不揮発メモリーの動作メカニズムを解明　日本原子力研究開発機構

  日本原子力研究開発機構は2019年11月14日、物質・材料研究機構、高エネルギー加速器研究機構と共同で、次世代不揮発メモリーの材料として期待されるアモルファスアルミ酸化膜において、半導体メモリーの全く新しい動作メカニズム…

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