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白金薄膜中への硫黄イオン注入でスピンホール効果を大幅に向上――MRAMや人工知能デバイスへの応用に期待 九州工業大学ら
九州工業大学、山口大学、Nanyang Technological University(シンガポール)、Inter University Accelerator Center(インド)の研究グループは2021年1月27…詳細を見る
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