タグ：原子層堆積（ALD）
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高蒸気圧のCVD／ALD用プリカーサー「TRuST」を開発――優れた段差被覆性と成膜速度向上 田中貴金属工業ら
TANAKAホールディングスは2020年9月28日、同社グループ会社の田中貴金属工業と韓国の嶺南大学校工科大学が協同で、世界最高水準の蒸気圧を持つCVD／ALD用液体ルテニウムプリカーサー「TRuST（トラスト）」を開発…詳細を見る-
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高解像度パターンを転写できる有機無機ハイブリッドレジスト材料を開発
ブルックヘブン国立研究所の研究チームが、次世代エレクトロニクス向けに、高解像度パターンを転写できる、有機無機ハイブリッド型レジスト材料を考案した。これまでより高いコントラストやアスペクト比が得られ、30nmレベルの解像度…詳細を見る-
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