タグ：産業技術総合研究所
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高精度な熱電デバイスの変換効率評価装置を開発―― 発電デバイスの国際標準化に道筋 NEDOと産総研
新エネルギー・産業技術総合開発機構（NEDO）は2023年9月13日、産業技術総合研究所と共同で、高精度な熱電デバイスの変換効率評価装置を開発したと発表した。開発した装置は、熱特性にあわせて最適化されたガードリングを熱電…詳細を見る-
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誘電体ナノキューブ単層膜と多層グラフェン膜の交互積層プロセス技術を開発 産総研
産業技術総合研究所（産総研）は2023年9月1日、誘電体材料のチタン酸バリウム（BTO）のナノキュープ単層膜と多層グラフェン膜の交互積層プロセス技術を開発したと発表した。 小型電子機器の重要な部品の1つである積層セ…詳細を見る-
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薄膜転写技術で異種材料結晶をシリコン光回路上に集積――マイクロトランスファープリンティング技術を開発 東工大と産総研
東京工業大学は2023年8月10日、産業技術総合研究所（AIST）と共同で、薄膜転写技術を用いて異種材料結晶を微小な薄膜シールに加工し、シリコン光回路上に集積する「マイクロトランスファープリンティング」技術を発表した。こ…詳細を見る-
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ハイエントロピー合金で電極触媒性能の飛躍的向上に成功 東北大学
東北大学は2023年7月28日、燃料電池の電極触媒材料としてハイエントロピー合金を用いることで、性能を飛躍的に向上させることに成功したと発表した。高性能な自動車用燃料電池触媒の開発につながることが期待され、研究成果は7月…詳細を見る-
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宇宙用途から原子炉まで――極限的環境で作動する圧電センサーを開発
ヒューストン大学（UH）の研究チームが、高温で作動する圧電センサーとして単結晶窒化アルミニウム（AlN）薄膜を作成することに成功し、900℃においても高感度かつ高信頼性で耐久性があることを実証した。航空宇宙やエネルギー、…詳細を見る-
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極低温下で動作する量子ビット制御用集積回路のノイズ発生源を特定 産総研
産業技術総合研究所（産総研）は2023年6月12日、極低温下で動作する量子ビット制御用集積回路で発生するノイズの原因を特定したと発表した。 量子コンピューターの性能向上に向けて量子ビット数を増やすには、多数の量子ビ…詳細を見る-
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バイオマス由来の2種のプラスチックを組み合わせた新しい素材を開発 産総研
国立研究開発法人産業技術総合研究所（産総研）は2023年5月19日、バイオマス由来のポリエステルとポリアミドを組み合わせた新しいプラスチック素材を開発したと発表した。新素材は透明なフィルムとして成形でき、このフィルムは汎…詳細を見る-
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環境温度に関わらず、力を加えて熱を取り出せる蓄熱材料を開発――TiNi系相変態合金を採用 産総研
産業技術総合研究所（産総研）磁性粉末冶金研究センターは2023年3月8日、TiNi系相変態合金を用いることで、これまで蓄熱、放熱ができなかった温度域で動作する蓄熱材料を発表した。開発した合金は環境温度に関わらず、外力を加…詳細を見る-
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水蒸気を含むガスから有機溶媒だけを回収する吸着材を開発 産総研
国立研究開発法人産業技術総合研究所は2023年2月16日、青色顔料として使われるプルシアンブルーを改良し、メタノールを回収、濃縮できる新しい吸着材を開発したと発表した。化学工場などから排出される水蒸気を含むガスからメタノ…詳細を見る-
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次世代ロジック半導体開発に貢献する、低コンタクト抵抗技術を共同開発 産総研と東京都立大学
産業技術総合研究所（産総研）は2023年2月10日、2次元材料MoS2と層状Sb2Te3のファンデルワールス界面形成による低コンタクト抵抗技術を、東京都立大学と共同で開発したと発表した。同技術は次世代ロジック半導体開発に…詳細を見る-
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