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同時横方向エピタキシャル成長法で3C-SiCと4H-SiCを積層させた、ハイブリッド構造基板を製作 東北大とCUSIC
東北大学電気通信研究所と同大学未来科学技術共同研究センターは2023年9月28日、CUSICと共同で、世界で初めて、同時横方向エピタキシャル成長法(SLE法)を用いて、3C-SiCと4H-SiCを積層させたハイブリッド構…詳細を見る
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