タグ:Si基板
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大面積の強誘電体結晶薄膜をSi基板上に作製する新手法を開発 東京大学
東京大学大学院工学系研究科の研究グループは2024年7月18日、バッファ層とスピンコート法を組み合わせ、大面積の強誘電体結晶薄膜をSi基板上に作製する新たな手法を発表した。 比較的低温かつ常圧で製膜できるスピンコー…詳細を見る -
独自成膜技術によるGaN系微小光源の基板と新工法を開発――100μm長レーザー発振を実現 京セラ
京セラは2022年10月17日、GaN系微小光源を作製するためのSiをベースとした独自基板と同基板を用いた新しい工法を開発し、100μm長レーザーの発振を実現したと発表した。同社によると世界初となる。 素子の一辺が…詳細を見る